Intel Foundry mulai produksi massal prosesor Intel Core Ultra Series 3, Panther Lake, menggunakan teknologi litografi High NA EUV dari ASML pada proses Intel 18A. Ini adalah tonggak penting yang menunjukkan kesiapan teknologi High NA EUV untuk produksi dengan hasil setara platform sebelumnya. Kolaborasi Intel dan ASML meningkatkan resolusi chip dan kontrol proses, memungkinkan pola yang lebih kecil dan padat untuk mendukung kemajuan AI dan teknologi lain. Perkembangan ini membuka jalan untuk adopsi lebih luas High NA EUV di node semikonduktor masa depan sesuai kebutuhan pelanggan.
China mewajibkan pabrik semikonduktor menggunakan minimal 50% alat produksi dalam negeri untuk kapasitas baru, menguntungkan pemasok lokal seperti Naura dan AMEC. Kebijakan ini, bersama pembatasan ekspor AS, membatasi akses Applied Materials ke pasar...
Podcast Investing for Beginners menguraikan kerangka tiga tingkat untuk investasi AI: semikonduktor, infrastruktur utama, dan perusahaan AI. Mereka menyarankan fokus pada titik kunci struktural di semikonduktor (TSMC, ASML) dan infrastruktur cloud (A...
ASML melaporkan kuartal kedua rekor dengan pendapatan $10,65 miliar, didorong permintaan chip AI dan layanan upgrade, dengan penjualan sistem EUV diperkirakan tumbuh lebih dari 45% tahun ini. Canon fokus pada litografi nanoimprint untuk chip memori d...
