Intel Foundry mulai produksi massal prosesor Intel Core Ultra Series 3, Panther Lake, menggunakan teknologi litografi High NA EUV dari ASML pada proses Intel 18A. Ini adalah tonggak penting yang menunjukkan kesiapan teknologi High NA EUV untuk produksi dengan hasil setara platform sebelumnya. Kolaborasi Intel dan ASML meningkatkan resolusi chip dan kontrol proses, memungkinkan pola yang lebih kecil dan padat untuk mendukung kemajuan AI dan teknologi lain. Perkembangan ini membuka jalan untuk adopsi lebih luas High NA EUV di node semikonduktor masa depan sesuai kebutuhan pelanggan.
Steve Eisman merekomendasikan investasi pada pemasok chip seperti Micron, SK Hynix, ASML, KLA, Lam Research, dan Applied Materials daripada desainer chip di tengah perlombaan AI. Pemasok ini mengungguli Nvidia di 2026, didorong oleh permintaan AI yan...
ASML melaporkan kuartal yang kuat dengan pendapatan melonjak dan menaikkan panduan, mendominasi litografi chip canggih dengan alat High NA EUV-nya. Sementara itu, Canon dan Nikon mengejar metode litografi alternatif—nanoimprint dan DUV—yang menargetk...
Mesin litografi ASML senilai $400 juta sangat penting untuk chip AI canggih, tapi tidak bisa mencetak desain chip terbesar sekaligus, sehingga harus menggunakan proses bertahap yang mahal. Solusi dengan photomask lebih besar direncanakan siap sekitar...
Saham ASML turun lebih dari 14%, namun tetap direkomendasikan beli karena monopoli mesin litografi EUV yang penting untuk chip canggih. Pendapatan Q2 2026 naik 21,3% dan panduan tahun penuh dinaikkan, didukung backlog $45 miliar dan permintaan AI yan...
Lam Research dan Applied Materials sama-sama mencatat hasil kuartal kuat berkat investasi semikonduktor terkait AI. Fokus Lam Research pada teknologi etsa canggih sangat selaras dengan sistem EUV bernilai tinggi ASML, menjadikannya penerima manfaat l...
