ACM Research perluas platform Ultra C Tahoe untuk proses wet canggih di manufaktur semikonduktor

ACM Research mengembangkan sistem Ultra C Tahoe menjadi platform proses wet multi-proses yang mendukung aplikasi wet etch dan reclaim wafer monitor untuk produksi chip logika dan memori. Platform ini mengintegrasikan proses batch dan single wafer, meningkatkan efisiensi, mengurangi penggunaan bahan kimia hingga 75%, dan mempercepat siklus produksi dengan menggabungkan beberapa langkah. Ekspansi ini telah diadopsi oleh produsen semikonduktor terkemuka, menunjukkan skalabilitas dan manfaat lingkungan. ACM berkomitmen untuk terus mendorong manufaktur semikonduktor yang fleksibel, efisien, dan berkelanjutan.