
ACM Research tingkatkan sistem pembersihan wafer dengan daur ulang asam sulfat 70%, hemat biaya dan limbah.
ACM Research mengembangkan sistem Single-Wafer Hot Sulfuric Peroxide Mixture (SPM) dengan fitur daur ulang asam sulfat sebesar 70%. Peningkatan ini menjaga kontrol partikel ketat dan telah diuji di lebih dari 50 lapisan proses di pelanggan foundry, m...



