Applied Materials memperkenalkan dua sistem manufaktur semikonduktor canggih: Centris™ Spectral™ SiN ALD untuk deposisi silikon nitrida seragam dan Producer™ Selectra™ Mo Etch untuk penghilangan molibdenum presisi pada struktur chip 3D. Inovasi ini mengatasi tantangan dalam memperbesar arsitektur 3D yang dalam dan sempit seperti transistor gate-all-around dan 3D NAND berlapis tinggi, meningkatkan performa perangkat, efisiensi energi, dan hasil produksi. Teknologi baru ini memungkinkan produsen chip melanjutkan pengembangan chip AI dan memori dengan kontrol material lebih baik dan sudah digunakan oleh produsen terkemuka. Applied Materials memamerkan sistem ini di Simposium IEEE VLSI 2026, menandai peran mereka dalam inovasi semikonduktor generasi berikutnya.
Saham Applied Materials naik 25,22% dalam seminggu setelah Juni yang berat, didorong oleh permintaan AI yang kuat dan kenaikan proyeksi pertumbuhan. Meskipun pendapatan dan panduan laba mencetak rekor, saham ini diperdagangkan dengan valuasi tinggi d...
Setelah IPO SpaceX senilai $75 miliar yang bersejarah, Lynx Equity menyatakan Nvidia bisa menjadi pemenang terbesar karena meningkatnya permintaan infrastruktur AI. Valuasi SpaceX terkait erat dengan usaha AI Elon Musk, xAI, yang sangat bergantung pa...
